国家同步辐射实验室邹崇文副研讨员和樊乐乐博士等使用同步辐射X射线衍射和倒空间成像技能(ReciprocalSpaceMapping)，在研讨二氧化钒超薄膜的外延成长和界面应力调控相变方面获得重要发展，相关研讨作业发表于近期的NanoLett.,14(2014)4036。

  的电、磁和光学性质会产生骤变，比方在相变进程中其电阻率和红外线透射率的骤变等，因而在相变存储和“智能窗”的使用上具有极大的远景。可是这种相变临界温度为68度，作为实践使用依然相对过高。因而调控二氧化钒相变进程，以此来下降相变温度一直是研讨的热点问题。现在常用的办法是使用钨、铌等原子掺杂来下降其相变温度到室温邻近。虽然经过上述掺杂调控虽然可以使得相变温度大幅度的下降，可是其原先所具有的骤变的光电功用特性，比方巨大的电阻率和红外透射率的改变会大大削弱，然后丧失了其作为智能窗资料的实践用处。使用薄膜外延堆积的手法在二氧化钒薄膜内产生界面应力，以此来下降二氧化钒薄膜的相变温度被证明为一个可行的手法。可是界面应力的引进对二氧化钒薄膜的晶格结构的影响及相应电子态的调控机理仍不清楚。

  针对以上问题，他们使用氧射频分子束外延办法在二氧化钛单晶衬底上成功制备了从几个原胞到几十纳米厚度的外延二氧化钒薄膜并测验了其金属绝缘体相变特性。一起选用同步辐射衍射倒空间成像技能研讨了这种超薄膜的界面应力改变的动力学进程，结合变温电学测验和第一性原理理论计算成果，深化提醒了这种内涵应力对其相变进程的调控机理。依据成果得出界面应力的效果使得外延二氧化钒超薄膜的晶格产生胀大，导致其电子态密度，特别是d//轨迹的电子占有状况呈现明显的改变。这种电子态密度和d轨迹占有行为的改变直接调制了这种外延超薄膜的相变行为，使得其相变温度大大下降。

  审稿人对此作业给出了高度评价，以为这项作业使用同步辐射光源优势对二氧化钒的应力相变调控给出了愈加深化和明晰的物理图画，对二氧化钒的相变行为研讨具有极端严重指导意义。

  以上研讨作业得到国家自然科学基金面上项目、中科院青年立异促进会，立异研讨集体项目和科技部“973”项目等基金的赞助。